【摘要】 上海新阳研发费倍增聚焦光刻胶项目 非经常性损益致净利预降60%但主业坚挺
上海新阳(300236.SZ)半导体材料企业的经营业绩明显低于预期。
根据业绩预测，2021年，上海新阳归属于上市公司股东的净利润(以下简称净利润)约1亿元，同比下降约60%。
2019年和2020年，上海新阳的经营业绩稳步增长。
对此，上海新阳解释说，净利润同比大幅下幅下降，主要受公允价值变化的影响。去年，该指标价值经常增加2.2亿元，2021年影响较小。
《长江商报》记者发现，虽然净利润大幅下降，但上海新阳的主营业务依然强劲。该公司表示，2021年，半导体业务售规模增长50%以上。
上海新阳正在积极布局。今年2月15日晚，公司宣布将投资3.2亿元扩建合肥项目，主要用于芯片清洗液、研磨液系列等集成电路关键工艺化学材料的研发、生产和销售。
此外，2021年，上海新阳还投资2亿多元用于光刻胶项目的研发，使公司的研发费用翻了一番，2020年，公司的研发费用为0.80亿元。
非经常性损益影响净利润大幅下降。
预期改善未实现，上海新阳净利润大幅下降。
去年10月底，上海新阳披露的第三季度报告让市场感到惊讶。
根据第三季度报告，前三季度，上海新阳实现营业收入7.12亿元，同比增长46.31%，保持快速增长；净利润为0.85亿元，同比下降51.99%，与营业收入背道而驰。
去年半年报显示，公司净利润为1.08亿元，同比增长316.82%。
相比之下，公司第三季度实现净利润亏损，亏损金额为0.23亿元。
市场预期，第四季度，公司经营将有所改善，推动年度经营业绩从下降到增长。
然而，这个愿望并没有全部实现。根据业绩预测，2021年上海新阳净利润区间为0.95亿-1.15亿元，去年同期为2.74亿元，同比下降58.08%-65.37%，仍大幅下降。
但与第三季度报告相比，公司第四季度净利润为0.10亿元至0.30亿元，环比扭亏为盈。
上海新阳解释说，全年经营业绩大幅下滑，主要受公允价值变化的影响。去年，公司金融资产公允价值变化影响的非经常性损益增加2.2亿元，2021年非经常性损益影响较小。
《长江商业日报》记者发现，近两年来，上海新阳的净利润受到投资净和金融资产公允价值变化的明显影响。
利润表显示，2019年和2020年，上海新阳投资净收入分别为3.04亿元-0.03亿元，公允价值变动净收入分别为0元和2.62亿元。近两年，公司净利润分别为2.10亿元和2.74亿元，同比增长3059.82%和30.44%。
2021年前三季度，公司投资净收益，公允价值变动净收益分别为2.16亿元，-1.99亿元，基本抵消。
由此可见，正如上海新阳所说，公司净利润的下降是由于净投资收益和净公允价值的变化。
净利润大幅下降也是上海新阳股价下跌的重要因素。去年7月30日，公司股价一度达到64.64元/股，而今年3月2日，股价跌至38.97元/股，累计跌至39.71%。
为稳定股价，上海新阳实施了3203.36万元的股份回购计划。但公司收到了监管信。
3月2日，上海新阳披露，今年1月13日，14日，该公司共回购约80万股股份。但公司于今年1月26日披露了《2021年度业绩预测》
3.2亿扩产合肥项目针对研磨液。
虽然经营业绩不理想，但上海新阳的产业布局依然如火如荼。
上海新阳的主要业务分为集成电路制造和先进包装关键工艺材料及配套设备的研发、生产、销售和服务两类，为客户提供综合解决方案。另一类是环保、功能涂料的研发、生产及相关服务业务，为客户提供专业的整体涂装业务解决方案。公司主要产品包括半导体晶圆制造和先进包装电镀液和添加剂系列产品、半导体晶圆制造清洁系列产品、半导体包装电子化学材料等六大系列产品。
上海新阳表示，长期以来，公司在半导体传统包装领域的功能性化学材料市场份额居全国第一。在集成电路制造的关键工艺材料领域，芯片铜互连电镀液和添加剂，蚀刻后的清洗液已大规模工业化。国内集成电路生产线认定的Baseline(基准线/基准材料)数量已超过30条，是中国唯一一家能够为晶圆铜工艺90-14nm技术节点提供超纯电镀液和添加剂的本土企业。干法蚀刻后的清洗液已完全覆盖28nm以上的技术节点，20-14nm电镀液已完成量产测试和销售。氮化硅蚀刻液是公司用于存储芯片的原创新产品，打破了国外垄断，成功通过客户验证，实现了产业化销售。
上海新阳表示，自主研发的KRF光刻胶产品已通过客户认证，并成功取得订单，光刻胶项目取得重大突破。
这些好处使得上海新阳的主营业务稳步发展。根据业绩预测，2021年，受益于国内集成电路产业的快速发展，上海新阳晶圆制造业超纯化工材料销量大幅增长，半导体业务销量增长50%以上。
2020年，公司扣除非经常性损益的净利润为0.47亿元，2021年预计为0.87亿元至1.07亿元，同比增长85.83%-128.55%。
上海新阳仍在布局中。今年2月15日，公司披露，拟投资3.2亿元扩大合肥项目生产，主要从事芯片清洗液、研磨液系列等集成电路关键工艺化学材料产品的研发、生产和销售，预计2024年批量生产，2030年满产，年产值约5亿元。
同时，上海新阳宣布投资CMP研磨液项目。公司计划增资苏州博来纳润电子材料有限公司（以下简称博来电子）2000万元，获得其9.1%的股权。博来电子主要从事研磨材料、抛光材料的开发、生产和销售。目前，现有产品正处于在线测试和小批量生产和销售阶段。
此外，上海新阳还计划投资3300万元转让上海辉岩材料科技有限公司（以下简称上海辉岩）100%的股权。上海辉岩主要研发半导体芯片生产工艺研磨液，2021年前三季度净利润亏损1073万元。
上海新阳表示，作为一家半导体材料研发企业，公司致力于成为集电镀、清洗、光刻、研磨技术为一体的关键工艺材料服务提供商。
值得一提的是，上海新阳的R&D投资大幅增长。2019年和2020年，公司R&D费用分别为0.53亿元和0.80亿元，2021年前三季度飙升至1.56亿元。
在业绩预测中，上海新阳透露，2021年，公司研发费用超过2亿元，主要用于光刻胶项目研发和参与的国家重大科技项目。